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分析半導(dǎo)體器件中的EOS和ESD故障詳解-KIA MOS管

信息來源:本站 日期:2022-03-16 

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分析半導(dǎo)體器件中的EOS和ESD故障詳解-KIA MOS管


靜電可以定義為累積在材料表面的固定電荷。靜電荷之間的相互作用(稱為靜電)導(dǎo)致兩個關(guān)鍵問題:靜電過應(yīng)力(EOS)和靜電放電(ESD)。


通常,ESD會導(dǎo)致半導(dǎo)體行業(yè)中超過三分之一的現(xiàn)場故障。ESD引起的半導(dǎo)體故障可以通過泄漏,短路,燒毀,接觸損壞,柵極氧化物破裂以及電阻器-金屬界面損壞的形式看到。


CMOS縮放可降低功耗并提高速度,但是較小的尺寸會增加由于EOS / ESD條件而導(dǎo)致薄柵極氧化物損壞的敏感性。


半導(dǎo)體芯片尺寸的縮小,柵極氧化物的稀薄,多個電源,芯片的復(fù)雜性以及高速電路的運(yùn)行,都對ESD敏感度做出了重要貢獻(xiàn)。縮小柵氧化層的厚度需要較少的電壓來損壞。


預(yù)測ESD非常繁瑣,因?yàn)镋SD現(xiàn)象同時發(fā)生在微觀和宏觀的物理水平上。ESD保護(hù)設(shè)計(jì)是IC設(shè)計(jì)人員面臨的主要挑戰(zhàn)。隨著深亞微米級技術(shù)的進(jìn)步并達(dá)到更高的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn),需要先進(jìn)的預(yù)測性和魯棒性模型以及增強(qiáng)的CAD流程設(shè)計(jì)驗(yàn)證來應(yīng)對ESD。


當(dāng)生產(chǎn)環(huán)境中的人員,機(jī)械臂和其他設(shè)備搬運(yùn)設(shè)備時,會發(fā)生ESD損壞。它還來自包裝本身的電荷存儲。ESD是EOS的子集。可以通過兩種方法減少由于ESD引起的IC故障:


?在IC的制造,運(yùn)輸和使用過程中,確保人員和設(shè)備的正確搬運(yùn)和接地。


?在封裝IC的引腳上添加保護(hù)電路,以在ESD應(yīng)力事件期間將高電流從內(nèi)部電路轉(zhuǎn)移出去并鉗位高電壓。


ESD保護(hù)電路設(shè)計(jì)為響應(yīng)ESD事件而導(dǎo)通,將焊盤上的電壓鉗位。


現(xiàn)場返回設(shè)備的故障分析可以通過揭示故障機(jī)制來協(xié)助設(shè)計(jì)和開發(fā)過程。芯片制造商遵循行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),以使其產(chǎn)品具有ESD資格。但是,他們無法控制客戶的操作,因此需要有效的片上電路保護(hù)和測試。


電荷產(chǎn)生與轉(zhuǎn)移機(jī)制

電荷產(chǎn)生過程主要有三個:摩擦帶電(接觸和分離機(jī)制),感應(yīng)和傳導(dǎo)。


由于不同材料之間的摩擦,材料表面上e–的電荷不平衡稱為摩擦帶電。產(chǎn)生的電荷的極性和強(qiáng)度取決于材料的摩擦電性能,表面粗糙度,施加的壓力,溫度,應(yīng)變和其他因素。


圖1顯示了來自兩個不同的負(fù)電對象X和Y的電荷轉(zhuǎn)移。讓我們假設(shè)當(dāng)對象之間發(fā)生接觸(摩擦)時,對象X損失e–,對象Y獲得e–。因此,與對象Y相比,對象X將帶正電。這種現(xiàn)象稱為摩擦電。

半導(dǎo)體 靜電過應(yīng)力 EOS 靜電放電 ESD


1.電荷轉(zhuǎn)移取決于運(yùn)動和材料的摩擦電特性。

當(dāng)人在地板上行走時,地板和鞋底之間的接觸和分離會產(chǎn)生靜電。在地毯上行走的人可能會積累數(shù)千伏的電荷,足以產(chǎn)生火花。通過向地面放電可以恢復(fù)電荷平衡。放電非常快,約為納秒。


通常,人們需要約3 kV的電壓才能通過靜電放電感到電擊。ESD事件通常會輕度震撼人們。但是,如果將相同數(shù)量的ESD應(yīng)力注入設(shè)備,則可能是有害的。


通過增加絕緣材料保持電荷的能力,環(huán)境空氣中的低相對濕度會增加發(fā)生放電的電壓。通過降低空氣的電導(dǎo)率,電荷積累也很難逐漸消散。


由于駕駛員的衣服與車輛內(nèi)部的皮革或塑料內(nèi)飾之間的摩擦,汽車行駛會導(dǎo)致駕駛員和乘客積聚電荷。所存儲的電荷在與金屬車身接觸時會散發(fā)出火花。


當(dāng)IC在運(yùn)輸管中滑動時,由于管與IC引線之間的摩擦?xí)a(chǎn)生靜電,因此也會產(chǎn)生摩擦帶電。


除了摩擦電,材料還可以通過感應(yīng)和傳導(dǎo)產(chǎn)生靜電荷。帶電的材料具有靜電場。當(dāng)任何導(dǎo)電材料進(jìn)入靜電場時,由于感應(yīng)會發(fā)生內(nèi)部電荷分布。


圖2示出了何時使不帶電的物體B靠近帶電的物體A,并且B獲得分布的電荷。近端帶負(fù)電荷,而遠(yuǎn)端帶正電荷。ESD充電設(shè)備模型(CDM)基于靜電感應(yīng)。


當(dāng)兩個不同電位的帶電體相互接觸時,電荷從較高電位的體流向較低電位的體,直到它們都具有相同的電位。這種機(jī)制稱為傳導(dǎo)。


概括地說,材料可在ESD處理類別被分類,例如絕緣體(ρ> 10 12 Ω/平方),慢速充電耗散防靜電(10 9 <ρ> 10 12 Ω/平方),電荷耗散防靜電(10 6 <ρ> 10 9 Ω/平方),和導(dǎo)電性(ρ<10 6 Ω/平方)。


防靜電材料可防止摩擦,因此防靜電和耗散材料可用于限制制造和組裝環(huán)境中的電荷積累。


電氣過應(yīng)力

EOS是一個術(shù)語,用于描述當(dāng)IC承受超過器件數(shù)據(jù)手冊規(guī)格限制的電流或電壓時可能發(fā)生的熱損壞。EOS事件可能會使IC降級或?qū)е掠谰眯怨δ芄收稀OS比ESD慢得多,但是相關(guān)能量很高。


熱損壞是EOS事件期間產(chǎn)生的過多熱量的結(jié)果。EOS事件中的高電流會在低電阻路徑中產(chǎn)生局部高溫。高溫會損壞器件材料,例如柵極氧化物和互連,導(dǎo)致金屬燒壞。由于EOS和ESD故障模式的相似性,EOS和ESD通常歸類為單項(xiàng)故障機(jī)制,即“ ESD和EOS”。


關(guān)于應(yīng)力事件,ESD和EOS相似,但電流或電壓以及時間應(yīng)力條件不同。ESD是一個非常高的電壓(> 500 V)和中等的峰值電流(?1 A至10 A)事件,在短時間內(nèi)發(fā)生。


EOS是發(fā)生在較長時間范圍內(nèi)的低電壓(<100 V)和大峰值電流(> 10 A)事件。如果長時間持續(xù),閂鎖也會導(dǎo)致EOS損壞。


半導(dǎo)體 靜電過應(yīng)力 EOS 靜電放電 ESD


2.當(dāng)使不帶電的物體B靠近帶電的物體A時,B會獲得分布式電荷。


靜電放電

ESD是兩個物體之間通過直接接觸或感應(yīng)電場以不同的靜電勢瞬時釋放靜電荷的過程。這是帶靜電的物體的結(jié)果。通過IC釋放靜電荷會產(chǎn)生大電流并耗散能量,從而損壞IC。任何材料表面的電荷通常是中性的。當(dāng)能量傳遞給它時,會發(fā)生電荷不平衡。


由于導(dǎo)電表面中的高電子遷移率,導(dǎo)體不易通過摩擦來充電,因此會發(fā)生電荷復(fù)合并保留中性表面。另一方面,絕緣子可以容易地通過摩擦來充電。將能量傳遞給不導(dǎo)電的材料會導(dǎo)致大量的局部堆積電荷,直到它通過外部路徑放電為止。


靜電的主要來源包括絕緣體,例如塑料表面,絕緣鞋,木質(zhì)材料和氣泡包裝。由于絕緣體中的電荷分布不均勻,這些源所產(chǎn)生的電壓電平可能會很高,達(dá)到總計(jì)千伏。


IC中的ESD損壞也可能來自熱現(xiàn)象。局部體積中會以非常快的速率產(chǎn)生大量熱量,而這太快了,無法去除。因此,IC會以金屬互連燒壞,多晶硅損壞,柵氧化層破裂或擊穿,接觸尖峰或結(jié)擊穿的形式損壞。


當(dāng)人們在合成地板上行走時,它們可以累積高達(dá)20 kV的電壓。在干燥的空氣中摩擦(摩擦)尼龍和聚酯可產(chǎn)生25 kV。當(dāng)人觸摸接地物體時,電荷會在很短的時間內(nèi)(1到100 ns)從人移動到物體。放電時間和電流取決于時間常數(shù)。


放電電流總計(jì)約為1 A至10A。從工廠到現(xiàn)場的任何地方都可能對電子設(shè)備造成靜電損壞。半導(dǎo)體器件設(shè)計(jì)用于ESD保護(hù),可在短時間內(nèi)承受高電流。


例如,如果某個設(shè)備符合ESD-HBM的規(guī)定,可以承受2kV的指定電壓,則該設(shè)備可以以1.3ns的上升時間和10ns的下降時間承載1.3A電流。但是,該同一設(shè)備在幾毫秒內(nèi)無法傳輸100 mA的電流。


如果設(shè)備暴露于弱ESD脈沖中并受到部分損壞,則它可能會繼續(xù)發(fā)揮足夠的作用,并通過符合數(shù)據(jù)表規(guī)格的生產(chǎn)自動化測試設(shè)備(ATE)測試。


然后,該缺陷可能會隨著時間的流逝而擴(kuò)展,并且?guī)讉€小時后設(shè)備就會發(fā)生故障。這些類型的缺陷稱為潛在缺陷,而故障稱為潛在的ESD故障。潛在缺陷很難檢測到,尤其是在將設(shè)備組裝成最終產(chǎn)品之后。


從概念上講,ESD(Electro-Static discharge),靜電釋放,EOS (Electrical Over Stress),電氣過應(yīng)力。廣義上講ESD也屬于EOS,為了便于分析,這里將靜電導(dǎo)致的應(yīng)力失效認(rèn)為是ESD失效,其余電氣應(yīng)力失效認(rèn)為是EOS失效。


有統(tǒng)計(jì)表明,ESD和EOS失效比例分別占3%和97%。


ESD是兩種材料互相位移,導(dǎo)致靜電釋放,ESD事件需要滿足下列條件:

(1)大電壓,>500V,峰值電流不高;(2)低能量,放電曲線是脈沖型,時間作用時間短,小于1μs。


如下圖所示:

半導(dǎo)體 靜電過應(yīng)力 EOS 靜電放電 ESD


ESD失效通常在顯微鏡下能觀測到穿孔,如下圖:

半導(dǎo)體 靜電過應(yīng)力 EOS 靜電放電 ESD


EOS失效是在EOS事件發(fā)生后,由于過熱導(dǎo)致芯片失效。過熱是芯片內(nèi)部連接電阻發(fā)熱的結(jié)果。在低電阻路徑中,在EOS事件期間經(jīng)歷的高電流會產(chǎn)生局部的高溫,從而對芯片結(jié)構(gòu)造成破壞性損壞。


EOS事件需要滿足下列條件:

(1)低電壓,<100V,峰值電流高;(2)高能量,事件作用時間通常大于1ms。

如下圖所示:

半導(dǎo)體 靜電過應(yīng)力 EOS 靜電放電 ESD


EOS失效顯微鏡下觀測如下:

半導(dǎo)體 靜電過應(yīng)力 EOS 靜電放電 ESD


ESD防護(hù)方法:

(1)做好接地,在生產(chǎn)過程中注意帶防靜電手腕及工作表面接地;

(2)芯片在儲存或運(yùn)輸過程中,用靜電屏蔽袋作為保護(hù);

(3)芯片焊接時,盡量使用離子風(fēng)機(jī),離子氣槍;

(4)PCB增加保護(hù)器件。


治理EOS事件時,首先需要明白多數(shù)EOS事件最終并未得到解決。EOS最關(guān)鍵是注意芯片規(guī)格書的極值范圍,治理方法可以通過下列:

(1) 測試設(shè)備有無接地不良;

(2) 接地回路電流是否過大;

(3) 是否存在高電感/電容負(fù)載;

(4) 是否存在交流電源線浪涌(大開關(guān)電流);

(5) 是否將長電纜連接到有源電路。




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