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關(guān)于BJT與MOS管的詳細(xì)解析-KIA MOS管

信息來源:本站 日期:2021-02-25 

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關(guān)于BJT與MOS管的詳細(xì)解析-KIA MOS管


BJT與MOS管(場(chǎng)效應(yīng)管)區(qū)別

1、三極管是電流控制電流,場(chǎng)效應(yīng)管是電壓控制電流(主要區(qū)別)。


2、三極管功耗大(極大的限制了三極管在大規(guī)模集成電路中的應(yīng)用),場(chǎng)效應(yīng)管功耗小(集成電路中應(yīng)用廣泛)。


3、場(chǎng)效應(yīng)管柵極幾乎不取電流,而三極管工作時(shí)基極總要吸取一定的電流。因此場(chǎng)效應(yīng)管的輸入電阻比三極管的輸入電阻高。


4、三極管導(dǎo)通電阻大,場(chǎng)效應(yīng)管導(dǎo)通電阻小,只有幾百毫歐姆,在現(xiàn)在的用電器件上,一般都將場(chǎng)效應(yīng)管作為開關(guān),其效率是比較高的。


5、場(chǎng)效應(yīng)管的噪聲系數(shù)很小,在低噪聲放大電路的輸入級(jí)及要求信噪比較高的電路中要選用場(chǎng)效應(yīng)管。


6、三極管是雙極性(內(nèi)部導(dǎo)電方式:空穴和載流子),場(chǎng)效應(yīng)管是單極性(空穴or載流子)。


類比:

三極管的NPN型與PNP型 對(duì)應(yīng)于場(chǎng)效應(yīng)管的 N型與P型。

三極管的b、c、e極 對(duì)應(yīng)于場(chǎng)效應(yīng)管的 g、d、s極。


MOS管和BJT的應(yīng)用心得

1. mos管的發(fā)熱問題

目前設(shè)計(jì)的Server電源中,用到兩組MOS管給CPU供電,在持續(xù)工作條件下非常燙手,盡管目前工作性能還比較正常,但對(duì)整體功效有影響,長期影響系統(tǒng)的可靠性。由于板面限制,沒法多并聯(lián)幾個(gè)MOS,該如何解決這個(gè)問題?


對(duì)于服務(wù)器電源中的負(fù)載開關(guān)這類應(yīng)用,由于MOS管基本上一直都是處于導(dǎo)通狀態(tài),故MOS管的開關(guān)特性無關(guān)緊要,而導(dǎo)通阻抗(RDS(ON))卻可能是這種應(yīng)用的關(guān)鍵品質(zhì)因數(shù),建議選用低導(dǎo)通電阻MOS管。導(dǎo)通電阻最低到1mΩ。如果功率密度較大,建議采用具有很低熱阻的CanPAK封裝、能實(shí)現(xiàn)頂部冷卻。


BJT MOS管


無論N型或者P型MOS管,其工作原理本質(zhì)是一樣的。MOS管是由加在輸入端柵極的電壓來控制輸出端漏極的電流。MOS管是壓控器件它通過加在柵極上的電壓控制器件的特性,不會(huì)發(fā)生像三極管做開關(guān)時(shí)的因基極電流引起的電荷存儲(chǔ)效應(yīng),因此在開關(guān)應(yīng)用中, MOS管的開關(guān)速度應(yīng)該比三極管快。


在開關(guān)電源應(yīng)用方面,這種應(yīng)用需要MOS管定期導(dǎo)通和關(guān)斷。比如,DC-DC電源中常用的基本降壓轉(zhuǎn)換器依賴兩個(gè)MOS管來執(zhí)行開關(guān)功能,這些開關(guān)交替在電感里存儲(chǔ)能量,然后把能量釋放給負(fù)載。


我們常選擇數(shù)百kHz乃至1 MHz以上的頻率,因?yàn)轭l率越高,磁性元件可以更小更輕。在正常工作期間,MOS管只相當(dāng)于一個(gè)導(dǎo)體。因此,我們電路或者電源設(shè)計(jì)人員最關(guān)心的是MOS的最小傳導(dǎo)損耗。


我們經(jīng)常看MOS管的PDF參數(shù),MOS管制造商采用RDS(ON) 參數(shù)來定義導(dǎo)通阻抗,對(duì)開關(guān)應(yīng)用來說,RDS(ON) 也是最重要的器件特性。


數(shù)據(jù)手冊(cè)定義RDS(ON) 與柵極 (或驅(qū)動(dòng))電壓 VGS 以及流經(jīng)開關(guān)的電流有關(guān),但對(duì)于充分的柵極驅(qū)動(dòng),RDS(ON) 是一個(gè)相對(duì)靜態(tài)參數(shù)。一直處于導(dǎo)通的MOS管很容易發(fā)熱。


另外,慢慢升高的結(jié)溫也會(huì)導(dǎo)致RDS(ON)的增加。MOS管數(shù)據(jù)手冊(cè)規(guī)定了熱阻抗參數(shù),其定義為MOS管封裝的半導(dǎo)體結(jié)散熱能力。RθJC的最簡單的定義是結(jié)到管殼的熱阻抗。


1.發(fā)熱情況有,電路設(shè)計(jì)的問題,就是讓MOS管工作在線性的工作狀態(tài),而不是在開關(guān)狀態(tài)。這也是導(dǎo)致MOS管發(fā)熱的一個(gè)原因。


如果N-MOS做開關(guān),G級(jí)電壓要比電源高幾V,才能完全導(dǎo)通,P-MOS則相反。沒有完全打開而壓降過大造成功率消耗,等效直流阻抗比較大,壓降增大,所以U*I也增大,損耗就意味著發(fā)熱。這是設(shè)計(jì)電路的最忌諱的錯(cuò)誤。


2.頻率太高,主要是有時(shí)過分追求體積,導(dǎo)致頻率提高,MOS管上的損耗增大了,所以發(fā)熱也加大了。


3.沒有做好足夠的散熱設(shè)計(jì),電流太高,MOS管標(biāo)稱的電流值,一般需要良好的散熱才能達(dá)到。所以ID小于最大電流,也可能發(fā)熱嚴(yán)重,需要足夠的輔助散熱片。


4.MOS管的選型有誤,對(duì)功率判斷有誤,MOS管內(nèi)阻沒有充分考慮,導(dǎo)致開關(guān)阻抗增大。


開關(guān)頻率

再來看最為重要的一點(diǎn),那就是開關(guān)速度。這一點(diǎn)對(duì)于沒有器件物理知識(shí)的讀者來說,討論起來會(huì)比較困難,所以這里不涉及具體的機(jī)理,僅說一下結(jié)論性的東西。


我們知道BJT飽和時(shí),兩個(gè)PN結(jié)都是正偏的,對(duì)于NPN型,集電極電流主要是發(fā)射區(qū)的電子先擴(kuò)散到基區(qū),然后再漂移到達(dá)集電區(qū)被收集而形成的。當(dāng)BJT工作在飽和狀態(tài)時(shí),注入的基極電流IB往往大于臨界飽和時(shí)所需要的基極電流IBS。


那么,集電區(qū)不能收集到從發(fā)射區(qū)擴(kuò)散到基區(qū)的全部電子,基區(qū)就會(huì)有電子的積累,或者說基區(qū)存儲(chǔ)有少子電荷QBS。當(dāng)外加基極驅(qū)動(dòng)電壓Ui突變?yōu)?時(shí),QBS不能馬上消散。只要QBS沒有消散,集電極電流就一直存在,BJT不能馬上關(guān)斷。


為了關(guān)斷BJT,必須從基極抽取存儲(chǔ)的少子電荷QBS。這個(gè)抽取過程所需的時(shí)間就是存儲(chǔ)時(shí)間,對(duì)一般的BJT,這個(gè)時(shí)間在μS級(jí),嚴(yán)重影響了BJT的關(guān)斷速度。而對(duì)MOSFET,開啟與關(guān)斷的時(shí)間僅僅是寄生電容充放電的時(shí)間,這個(gè)時(shí)間很容易控制到nS級(jí)甚至更小。


所以從開關(guān)速度來說,BJT也遠(yuǎn)遠(yuǎn)不及MOSFET。這也是造成現(xiàn)代功率電子電路中的功率開關(guān)幾乎全部被MOSFET替換的最主要原因。


導(dǎo)通損耗

接下來,我們看一下導(dǎo)通時(shí)的損耗。開關(guān)管導(dǎo)通時(shí),對(duì)于BJT來說,存在一個(gè)近乎常量的飽和壓降UCE(sat),對(duì)不同功率級(jí)別的管子來說,這個(gè)值在幾百mV到幾V之間。


而對(duì)于MOSFET而言,這個(gè)壓降等于漏源電流ID和導(dǎo)通電阻Ron的乘積。一般的低壓MOSFET,Ron為幾mΩ到幾百mΩ,而高壓MOSFET的這個(gè)值約幾百mΩ到幾Ω。

BJT MOS管


下面看一下這些寄生參數(shù)是如何影響開關(guān)速度的。

如圖十,當(dāng)驅(qū)動(dòng)信號(hào)Ui到來的一瞬間,由于MOSFET處于關(guān)斷狀態(tài),此時(shí)CGS和CGD上的電壓分別為UGS=0,UGD=-VDD,CGS和CGD上的電荷量分別為QGS= 0,QGD= UGDCGD=VDDCGD。


接下來Ui通過RG對(duì)CGS充電,UGS逐漸升高(這個(gè)過程中,隨著UGS升高,也會(huì)伴隨著CGD的放電,但是由于VDD遠(yuǎn)大于UGS,CGD不會(huì)導(dǎo)致柵電流的明顯增加)。


當(dāng)UGS達(dá)到閾值電壓時(shí),開始有電流過MOSFET(事實(shí)上,當(dāng)UGS還沒有達(dá)到閾值電壓時(shí),已經(jīng)有微小的電流流過MOSFET了),MOSFET上承受的壓降由原來的VDD開始減小, CGD上的電壓也會(huì)隨之減小,那么,也就伴隨著的CGD放電。


由于CGD上的電荷量QGD= VDDCGD較大,所以放電的時(shí)間較長。在放電的這段時(shí)間內(nèi),柵極電流基本上用于CGD的放電,因此柵源電壓的增加變得緩慢。


放電完成后,Ui通過RG繼續(xù)對(duì)CGS和CGD充電(因?yàn)榇藭r(shí)MOSFET已經(jīng)充分導(dǎo)通,相當(dāng)于CGS和CGD并聯(lián)),直到柵源電壓達(dá)到Ui,開啟過程至此完成。圖十一的曲線很好地描繪了導(dǎo)通過程中UGS隨時(shí)間變化的曲線。需要注意的是,由于驅(qū)動(dòng)提供的不是電流源,所以實(shí)際上的曲線并非直線,圖十一僅代表上升趨勢(shì)。


BJT MOS管


同時(shí),由上不難看出,RG越大,寄生電容的充電時(shí)間將會(huì)越長。顯然,RG太大時(shí)MOSFET不能在短時(shí)間內(nèi)充分導(dǎo)通。在高速開關(guān)應(yīng)用中(如D類功放、開關(guān)電源),這個(gè)阻值一般取幾Ω到幾十Ω。


然而,即使是低速情況下,RG也不宜取得太大,因?yàn)檫^大的RG會(huì)延長電容充電的時(shí)間,也就是MOSFET從關(guān)斷到充分導(dǎo)通的過渡時(shí)間。這段時(shí)間內(nèi),MOSFET處于飽和狀態(tài)(放大區(qū)),管子將同時(shí)承受較大的電壓和電流,從而引起較大的功耗。


但是RG如果取得太小或者直接短路的話,在驅(qū)動(dòng)電壓到來的一瞬間,由于寄生電容上的電壓為零,前級(jí)需要流過一個(gè)很大的電流,造成對(duì)前級(jí)驅(qū)動(dòng)電路的沖擊。





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